7月14日上午，光电学院“追光”学术论坛在沙河校区举行。国家杰出青年基金获得者、浙江大学光电学院匡翠方教授应邀作题为《高通量超分辨直写技术与系统》的学术报告。光电学院院长周哲海、部分教师及研究生参加活动，报告由吴思进教授主持。

匡翠方教授从点扫描超分辨成像的最新进展切入，系统介绍了其团队原创的“光与物质共限多光子光刻技术”，该技术突破了激光直写的光学衍射极限，将刻写特征尺寸和刻写周期分别提高到30 nm和80 nm，为微纳制造领域提供了革命性解决方案。报告中，匡教授还进一步介绍了提升刻写通量的超分辨激光直写方法、技术及装备，为解决微纳制造提供一种了新途径。

讲座互动环节，与会师生踊跃提问，针对超分辨原理、光刻技术、高通量激光直写系统等话题展开深入交流。整场报告兼具理论深度与工程视角，赢得了现场师生的热烈掌声和高度评价。（供稿/供图：光电学院 司娟宁 编辑/审核：郭辉）

专家简介：

匡翠方，浙江大学光电学院教授，极端光学技术与仪器全国重点实验室副主任。主要从事超分辨显微成像、超分辨光刻相关研究。主持国家自然科学基金委杰出青年基金、重大仪器专项基金等各类项目，在国内外学术期刊发表论文150多篇。 2019年度王大珩光学奖-中青年科技人员光学奖。成果获得2019年中国技术发明二等奖（2/6），2024获浙江省技术发明一等奖，2024年获中国光学学会技术发明特等奖。